RectificatieLeveringenEuropees
European Tender Electron Beam Lithography system
Dit is een rectificatie bij de aankondiging opdracht van 14 juni 2026. De tijdlijn hieronder toont alle publicaties van deze aanbesteding.
Samenvatting van het bestek
AI-samenvatting — controleer altijd de officiële stukken
Voor deze aanbesteding is (nog) geen samenvatting beschikbaar. We vatten alleen documenten samen die op TenderNed staan.
Omschrijving
The University of Twente is tendering to purchase an Electron Beam Lithography system. The MESA+ Institute of the University of Twente will invest in a new Electron Beam system (e-beam system). A system, suitable for defining patterns in electron sensitive resists, at high resolution and high speed, compatible with a wide range of applications and substrate types up to 200mm in diameter. The system will be used by a wide range of users, i.e. academic researchers and students as well as industrial engineers with different backgrounds (photonics, (nano)-electronics etc.) and different levels of expertise.
CPV-codes
- 38000000Laboratoriuminstrumenten, optische en precisie-instrumenten (uitgezonderd brillen) (hoofdopdracht)
- 38341100Elektronenstraalrecorders
Meer in deze hoofdgroep: Laboratorium- en precisie-instrumenten
Documenten
De aanbestedingsdocumenten staan niet op TenderNed maar op Mercell.
Tijdlijn van deze aanbesteding
Publicaties van Universiteit Twente met kenmerk 379fcf7e-45c5-4d48-b8ea-3be831450e85, oudste eerst.
- Aankondiging opdracht: European Tender Electron Beam Lithography system
- Rectificatie: European Tender Electron Beam Lithography system (deze pagina)
Meer open opdrachten
In Laboratorium- en precisie-instrumenten
- EA Reactive Ion Etcher (RIE) · SSC IUC DJI
- Levering en onderhoud TOC-TNb analyzers · AQUON
- Aanschaf ICP TQ MS · AQUON
- Levering en onderhoud van een 5-laser spectrale flowcytometer t.b.v. de afdelingen Immunologie en Viroscience · Erasmus MC
- Femtosecond laser system with tunable OPA · Technische Universiteit Eindhoven