Gegunde opdrachtLeveringenEuropees
European Tender Two Parallel Plate Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Systems
Dit is een gegunde opdracht. Bekijk op TenderNed ook de oorspronkelijke aankondiging en eventuele latere publicaties.
Samenvatting van het bestek
AI-samenvatting — controleer altijd de officiële stukken
Voor deze aanbesteding is (nog) geen samenvatting beschikbaar. We vatten alleen documenten samen die op TenderNed staan.
Omschrijving
The University of Twente is tendering to purchase two new Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition systems. The MESA+ Institute will invest in two new systems for deposition of (doped) dielectric thin films to upgrade and reinforce their state-of-the-art thin film technology and processing capacity. The systems will be used for moderate-temperature deposition of low stress thin films. For the following materials: silicon dioxide (SiO2) boron-doped SiO2 (BSG) phosphorus-doped SiO2 (PSG) boron-phosphorus-doped SiO2 (BPSG) low-stress silicon nitride (SiNx) silicon oxynitride (SiOxNy) amorphous silicon (aSi)
CPV-codes
- 38000000Laboratoriuminstrumenten, optische en precisie-instrumenten (uitgezonderd brillen) (hoofdopdracht)
Meer in deze hoofdgroep: Laboratorium- en precisie-instrumenten
Documenten
De aanbestedingsdocumenten staan niet op TenderNed maar op Mercell.
Meer open opdrachten
In Laboratorium- en precisie-instrumenten
- EA Reactive Ion Etcher (RIE) · SSC IUC DJI
- Levering en onderhoud TOC-TNb analyzers · AQUON
- Aanschaf ICP TQ MS · AQUON
- Levering en onderhoud van een 5-laser spectrale flowcytometer t.b.v. de afdelingen Immunologie en Viroscience · Erasmus MC
- Femtosecond laser system with tunable OPA · Technische Universiteit Eindhoven